第137章 国际震动
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  吕州，推土机已开进原美食城废墟，地基正在浇筑。
  那里，將崛起一座洁净如雪的晶片工厂，
  屋顶上，將竖起一行巨大的標语：“此处，刻写中国未来。”
  对於现在的华夏来说，那还是相当激动。
  但是，对於整个海外来说，感觉就不是这样了。
  消息传到海外，不过六小时。
  华尔街、硅谷、东京、埃因霍温——全球半导体圈炸开了锅。
  中国怎么可能弄出领先於世界先进水平的光刻机？
  最主要的是太魔幻。
  在这之前是真的一点消息都没有。
  短短半年內，一个此前从未掌握高端光刻技术的国家，突然宣布自主研发成功38nm浸没式光刻机，国际社会的第一反应绝不会是祝贺，而是震惊、怀疑、甚至嘲讽。
  假的，都是假的。
  2007年，全球最先进的量產工艺是65nm–45nm，这个技术还是掌握在intel、台积电、三星手中。
  浸没式光刻，是193nm duv技术的延伸，2004年asml才推出首台商用机，2007年仍属高端设备。
  华夏弄出来，这根本就不可能。