第277章 情绪点兑换：「光刻机双工件台与照明系统初步原理」

  深夜，香港浅水湾別墅的书房里，只有檯灯亮著一圈昏黄的光。

  王恪面前的笔记本摊开著，上面是龙芯量產遇到的各种工艺问题：东芝的1.2微米產线良率始终卡在70%，无论如何优化都上不去。张维从东京发回的报告里写得很清楚：“不是设计问题，是製造问题。我们的设计已经做到1微米以下的理论极限，但东芝的產线只能稳定做1.5微米，1.2微米已经是超频运行。”

  问题归根结底是设备。光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备……这些核心装备，中国造不了，日本也造不了最好的——最好的在荷兰asml，在美国应用材料，在德国蔡司。而这些公司对中国有出口限制，就算能买到，也是落后两代的產品。

  王恪放下笔，揉了揉发胀的太阳穴。窗外的海一片漆黑，只有远处灯塔有规律地闪烁。

  他调出系统界面。自从“崑崙”项目成功，情绪点又涨了一大波，现在余额是：1,287,654点。主要来自航天和军工部门的认可，来自高校师生的感激，来自明远员工的自豪。

  足够兑换很多东西了。

  他搜索“光刻机”。

  列表弹出，价格高得嚇人：

  【接触式光刻机基础原理（1970年代水平）：50,000点】

  【接近式光刻机技术详解（1980年代主流）：150,000点】

  【步进式光刻机核心技术（超前5年）：500,000点】

  【浸润式光刻机概念雏形（超前10年）：1,200,000点】

  【极紫外（euv）光刻技术前瞻（超前20年）：5,000,000点（需前置知识解锁）】

  王恪的目光落在第三项：“步进式光刻机核心技术”。这是未来十年的主流技术，能把晶片工艺推进到0.5微米甚至0.35微米。但五十万点，几乎是他现有点数的一半。

  他往下翻，看到了更细分的选项：